Företaget har sina rötter i ett metalletsningsföretag som år 1889 grundades i Berlin av Wilhelm Heidenhain. Då tillverkades schabloner, skyltar, gitter och skalor. Efter att företaget hade förstörts under andra världskriget startade sonen till firmagrundaren DR. JOHANNES HEIDENHAIN i Traunreut. De första produkterna var återigen gitter samt prisskalor för vågar inom detaljhandeln. Snart inkluderades optiska positionsmätsystem för verktygsmaskiner i produktprogrammet. I början av sextiotalet gick man över till fotoelektriska längdmätskalor och vinkelmätsystem. Denna utveckling möjliggjorde automatisering av många maskiner och anläggningar i tillverkningsindustrin. Sedan mitten av sjuttiotalet har HEIDENHAIN också blivit en allt mer framträdande tillverkare av styr- och drivsystem för verktygsmaskiner. Redan från första början har företaget haft en starkt teknisk inriktning. Med anledning av detta placerade Dr. Johannes Heidenhain år 1970 företaget i en stiftelse som skulle säkerställa kontinuiteten i företaget och med det, den tekniska utvecklingen. Idag ger detta HEIDENHAIN möjlighet till stora investeringar inom forskning och utveckling.
1889
W. HEIDENHAIN grundar ett metalletsningsföretag i Berlin
1923
Dr. Johannes Heidenhain börjar i sin faders företag
1948
Företaget DR. JOHANNES HEIDENHAIN nystartar i Traunreut
1950
Uppfinner DIADUR-processen: Tillverkning av motståndskraftiga precisionsmönster på glas genom att kopiera ett originalmönster
1970
Grundar den icke vinstdrivande DR. JOHANNES HEIDENHAIN-STIFTUNG GmbH
1980
Dr. Johannes Heidenhain dör
2014
HEIDENHAIN finns representerad i alla industrialiserade länder
Vinkelmätsystem för Daniel K. Inouye Solar Teleskop (DKIST, tidigare Advanced Technology Solar Telescope, ATST)
1936
Fotomekanisk kopiering av mätskalor i glas med noggrannhet ± 0,015 mm
1943
Kopierad kodskiva med noggrannhet ± 3 bågsekunder
1952
Vågskalor var den största intäktskällan
1967
Fristående gitter, mikrostrukturer
1985
Avståndskodade referensmärken för inkrementella mätskalor
1986
Mätskalor med fasgitter
1995
Korsgitter för 2-koordinat-mätsystem
2002
Plana fasgitterstrukturer för interferentiella längdmätsystem
2005
Amplitudgitter som tillverkas med laser och är okänsliga för smuts
2009
Stora korsgitter (400 mm x 400 mm) för mätsystem i halvledarindustrin
Optiska längdmätsystem för verktygsmaskiner
1961
Inkrementellt längdmätsystem LID 1, delningsperiod 8 µm / mätsteg 2 µm
1963
Absolut längdmätsystem LIC med 18 spår, Dual-Code / mätsteg 5 µm
1965
Laserinterferometer för uppmätning av verktygsmaskiner
1987
Öppet interferentiellt längdmätsystem LIP 101, mätsteg 0,02 µm
1989
Öppet interferentiellt längdmätsystem LIP 301, mätsteg 1 nm
1992
Tvådimensionellt längdmätsystem PP 109R
2008
Interferentiellt längdmätsystem LIP 200 med signalperiod 0,512 µm, för hastigheter upp till 3 m/s
2010
Öppet absolut längdmätsystem LIC 4000 med 2 spår,PRC, EnDat 2.2 för mätlängder upp till 27 m och upplösning 1nm
2012
Absolut längdmätsystem med ett spår LIC 2100
1966
Kapslat inkrementellt längdmätsystem LIDA 55.6 med mätskala i stål
1975
Inkrementellt längdmätsystem LS 500 med mätskala i glas, mätlängd upp till 3 m, mätsteg 10 µm
1977
Inkrementellt längdmätsystem LIDA 300, mätlängd upp till 30 m
1994
Absolut längdmätsystem LC 181 med 7 spår, EnDat-gränssnitt, mätlängd upp till 3m, mätsteg 0,1 µm
1996
Absolut längdmätsystem LC 481 med 2 spår, PRC, EnDat, mätlängd upp till 2 m
2011
Absolut längdmätsystem LC 200, mätlängd upp till 28 m, PRC, mätsteg 10 nm
Absolut längdmätsystem LC xx5, mätlängd upp till 4 m, mätsteg 1 nm
Optiska vinkelmätsystem
1957/1961
Fotoelektriskt vinkelmätsystem ROD 1 med 40.000 signalperioder/varv, 10.000 streck
1962
ROD 1 med 72.000 signalperioder/varv
1964
Absolut vinkelmätsystem ROC 15 / upplösning 17 Bit
Inkrementellt vinkelmätsystem ROD 800, noggrannhet ± 1 bågsekund
Inkrementellt vinkelmätsystem RON 905, noggrannhet ± 0.2 bågsekunder
1997
Absolut vinkelmätsystem med integrerad statorkoppling i hålaxelutförande RCN 723, 23 bit singleturn, EnDat-gränssnitt, noggrannhet ± 2 bågsekunder
2000
Interferentiellt vinkelmätsystem ERP 880 med 180.000 signalperioder/varv, noggrannhet ± 0,2 bågsekunder
2004
Absolut vinkelmätsystem RCN 727 med hålaxeldiameter upp till 100 mm
Interferentiellt vinkelmätsystem ROP 8080, för waferprober, kombinerad lagerenhet och vinkelmätsystem, 360.000 signalperioder/varv
Interferentiellt vinkelmätsystem i miniatyrutförande ERP 1080 i single-chip-encoder-utförande
Inkrementell fotoelektrisk pulsgivare ROD 1 med 10.000 streck
1981
Inkrementell pulsgivare ROD 426, industristandarden
Absolut multiturn-givare ROC 221 S, 12 Bit singleturn, 9 Bit multiturn
Inkrementella inbyggnads-pulsgivare ERN 1300 för arbetstemperatur upp till 120 °C
1993
Absoluta singleturn och multiturn givare ECN 1300 och EQN 1300
Absolut multiturn givare i miniatyrutförande EQN 1100 med Chip-On-Board teknik
Absolut singleturn-givare ECN 100 med hålaxeldiameter upp till 50 mm
Absoluta singleturn och multiturn givare i miniatyrutförande ECI 1100 och EQI 1100 (med induktiv avläsning)
2007
Absolut pulsgivare med “Functional Safety” SIL2/PL d och EnDat 2.2-interface