Den historiska utvecklingen av företaget och milstolpar i produktutvecklingen

Företaget har sina rötter i ett metalletsningsföretag som år 1889 grundades i Berlin av Wilhelm Heidenhain. Då tillverkades schabloner, skyltar, gitter och skalor. Efter att företaget hade förstörts under andra världskriget startade sonen till firmagrundaren DR. JOHANNES HEIDENHAIN i Traunreut. De första produkterna var återigen gitter samt prisskalor för vågar inom detaljhandeln. Snart inkluderades optiska positionsmätsystem för verktygsmaskiner i produktprogrammet. I början av sextiotalet gick man över till fotoelektriska längdmätskalor och vinkelmätsystem. Denna utveckling möjliggjorde automatisering av många maskiner och anläggningar i tillverkningsindustrin.

Sedan mitten av sjuttiotalet har HEIDENHAIN också blivit en allt mer framträdande tillverkare av styr- och drivsystem för verktygsmaskiner.

Redan från första början har företaget haft en starkt teknisk inriktning. Med anledning av detta placerade Dr. Johannes Heidenhain år 1970 företaget i en stiftelse som skulle säkerställa kontinuiteten i företaget och med det, den tekniska utvecklingen. Idag ger detta HEIDENHAIN möjlighet till stora investeringar inom forskning och utveckling.

Historiska milstolpar

1889

W. HEIDENHAIN grundar ett metalletsningsföretag i Berlin

1923

Dr. Johannes Heidenhain börjar i sin faders företag

1948

Företaget DR. JOHANNES HEIDENHAIN nystartar i Traunreut

1950

Uppfinner DIADUR-processen: Tillverkning av motståndskraftiga precisionsmönster på glas genom att kopiera ett originalmönster

1970

Grundar den icke vinstdrivande DR. JOHANNES HEIDENHAIN-STIFTUNG GmbH

1980

Dr. Johannes Heidenhain dör

2014

HEIDENHAIN finns representerad i alla industrialiserade länder

Mättekniska projekt

1961Fotoelektriskt mätmikroskop
1966Interferenskomparator för Tysklands nationella mätinstitut (Physikalisch-Technische Bundesanstalt PTB)
1971Vinkelmätbord och kontrollutrustning för PTB
1977Precisions-goniometer för PTB
1989Vinkelmätsystem för New Technology Telescope NTT
1999Vinkelmätsystem för Very Large Telescope VLT
1999Mätskalor för den internationella NANO-3-längdmätjämförelsen
mellan flera nationella mätinstitut
2001Nanometer-interferenskomparator för PTB
2003Vinkelmätjämförelse mellan HEIDENHAIN, PTB och AIST (statligt japanskt forskningsinstitut)
2004Längdmätjämförelse mellan HEIDENHAIN, PTB och MITUTOYO
2004Vinkelmätsystem för GRANTECAN Teleskop (Gran Telescopio CANARIAS)
2005Vinkelmätjämförelse mellan HEIDENHAIN och PTB
2007Vinkelmätsystem för de 25 europeiska ALMA antennerna (Atacama Large Telescope Array)
2013

Vinkelmätsystem för Daniel K. Inouye Solar Teleskop (DKIST, tidigare Advanced Technology Solar Telescope, ATST)

Milstolpar för gitter

1936

Fotomekanisk kopiering av mätskalor i glas med noggrannhet ± 0,015 mm

1943

Kopierad kodskiva med noggrannhet ± 3 bågsekunder

1952

Vågskalor var den största intäktskällan

1967

Fristående gitter, mikrostrukturer

1985

Avståndskodade referensmärken för inkrementella mätskalor

1986

Mätskalor med fasgitter

1995

Korsgitter för 2-koordinat-mätsystem

2002

Plana fasgitterstrukturer för interferentiella längdmätsystem

2005

Amplitudgitter som tillverkas med laser och är okänsliga för smuts

2009

Stora korsgitter (400 mm x 400 mm) för mätsystem i halvledarindustrin

Milstolpar för mätsystem: Öppna linjära mätsystem

1952

Optiska längdmätsystem för verktygsmaskiner

1961

Inkrementellt längdmätsystem LID 1, delningsperiod 8 µm / mätsteg 2 µm

1963

Absolut längdmätsystem LIC med 18 spår, Dual-Code / mätsteg 5 µm

1965

Laserinterferometer för uppmätning av verktygsmaskiner

1987

Öppet interferentiellt längdmätsystem LIP 101, mätsteg 0,02 µm

1989

Öppet interferentiellt längdmätsystem LIP 301, mätsteg 1 nm

1992

Tvådimensionellt längdmätsystem PP 109R

2008

Interferentiellt längdmätsystem LIP 200 med signalperiod 0,512 µm, för hastigheter upp till 3 m/s

2010

Öppet absolut längdmätsystem LIC 4000 med 2 spår,
PRC, EnDat 2.2 för mätlängder upp till 27 m och upplösning 1nm

2012

Absolut längdmätsystem med ett spår LIC 2100

2015Interferentiellt längdmätsystem LIP 6000 med mycket kompakt design

Milstolpar för mätsystem: Kapslade linjära mätsystem

1952

Optiska längdmätsystem för verktygsmaskiner

1966

Kapslat inkrementellt längdmätsystem LIDA 55.6 med mätskala i stål

1975

Inkrementellt längdmätsystem LS 500 med mätskala i glas, mätlängd upp till 3 m, mätsteg 10 µm

1977

Inkrementellt längdmätsystem LIDA 300, mätlängd upp till 30 m

1994

Absolut längdmätsystem LC 181 med 7 spår, EnDat-gränssnitt, mätlängd upp till 3m, mätsteg 0,1 µm

1996

Absolut längdmätsystem LC 481 med 2 spår, PRC, EnDat,  mätlängd upp till 2 m

2011

Absolut längdmätsystem LC 200, mätlängd upp till 28 m, PRC, mätsteg 10 nm

2014

Absolut längdmätsystem LC xx5, mätlängd upp till 4 m, mätsteg 1 nm

2015Inkrementellt längdmätsystem LP 100, mätlängd upp till 3 m, mätsteg 31,25 pm

Milstolpar för mätsystem: Vinkelmätsystem

1952

Optiska vinkelmätsystem

1957/1961

Fotoelektriskt vinkelmätsystem ROD 1 med 40.000 signalperioder/varv, 10.000 streck

1962

ROD 1 med 72.000 signalperioder/varv

1964

Absolut vinkelmätsystem ROC 15 / upplösning 17 Bit

1975

Inkrementellt vinkelmätsystem ROD 800, noggrannhet ± 1 bågsekund

1986

Inkrementellt vinkelmätsystem RON 905, noggrannhet ± 0.2 bågsekunder

1997

Absolut vinkelmätsystem med integrerad statorkoppling i hålaxelutförande RCN 723, 23 bit singleturn, EnDat-gränssnitt, noggrannhet ± 2 bågsekunder

2000

Interferentiellt vinkelmätsystem ERP 880 med 180.000 signalperioder/varv, noggrannhet ± 0,2 bågsekunder

2004

Absolut vinkelmätsystem RCN 727 med hålaxeldiameter upp till 100 mm

2009

Interferentiellt vinkelmätsystem ROP 8080, för waferprober, kombinerad lagerenhet och vinkelmätsystem, 360.000 signalperioder/varv

2011

Interferentiellt vinkelmätsystem i miniatyrutförande ERP 1080 i single-chip-encoder-utförande

Milstolpar för mätsystem: Pulsgivare

1957/1961

Inkrementell fotoelektrisk pulsgivare ROD 1 med 10.000 streck

1964Inkrementell standardpulsgivare i serien ROD 2 / ROD 4

1981

Inkrementell pulsgivare ROD 426, industristandarden

1987

Absolut multiturn-givare ROC 221 S, 12 Bit singleturn, 9 Bit multiturn

1992

Inkrementella inbyggnads-pulsgivare ERN 1300 för arbetstemperatur upp till 120 °C

1993

Absoluta singleturn och multiturn givare ECN 1300 och EQN 1300

2000

Absolut multiturn givare i miniatyrutförande EQN 1100 med Chip-On-Board teknik

2000

Absolut singleturn-givare ECN 100 med hålaxeldiameter upp till 50 mm

2004

Absoluta singleturn och multiturn givare i miniatyrutförande ECI 1100 och EQI 1100 (med induktiv avläsning)

2007

Absolut pulsgivare med “Functional Safety” SIL2/PL d och EnDat 2.2-interface

2012ERN 1387 inkrementell avläsning med förbättrad noggrannhet tack vare nyutvecklad avläsnings-ASIC
2014Absolut pulsgivare för applikationer upp till SIL3/PL e, EnDat 2.2-gränssnitt och eliminering av fel

Milstolpar i området styrsystem, elektronik

1968

Räknare VRZ 59.4 för 1 axel

1974

Numerisk lägesindikator HEIDENHAIN 5041

1976

Numeriska positioneringsstyrsystem TNC 110 och TNC 120 för 3 axlar

1979

Numeriska rätlinjestyrsystem TNC 131 / TNC 135

1981

Numeriska kurvlinjestyrsystem för 3 axlar TNC 145

1984

Numeriska kurvlinjestyrsystem för 4 axlar TNC 155, grafisk simulering av bearbetningen

1995

Synkron-seriellt gränssnitt EnDat för absoluta positionsmätsystem

1996

Kurvlinjestyrsystem TNC 426 med digital servoreglering för 5 axlar

1996

HEIDENHAIN kompletta paket TNC 410 MA med servon och motorer

2004

Kurvlinjestyrsystem iTNC 530 med alternativ driftart smarT.NC

2007

Kurvlinjestyrsystem TNC 620 med HSCI, seriellt regler-interface

2011

Kurvlinjestyrsystem TNC 640 för kombinerad fräsning-svarvning